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沈陽芯源微電子設備股份有限公司

全球品牌庫 admin

產品類型

其他,中國


廠家介紹

沈陽芯源微電子設備股份有限公司成立于2002年,是由中科院沈陽自動化研究所發起創建的國家高新技術企業,專業從事半導體生產設備的研發、生產、銷售與服務,致力于為客戶提供半導體裝備與工藝整體解決方案。

芯源公司總部位于沈陽市渾南區,并在上海臨港設有全資子公司。公司總部占地4萬平米,擁有專業的集成電路工藝開發和檢測實驗室以及半導體設備生產組裝車間。芯源公司通過多年技術積累、創新提高,形成自主知識產權體系,已擁有授權專利217項,其中發明專利162項。沈陽芯源公司作為國內領先的高端半導體裝備制造企業,所開發的涂膠機、顯影機、噴膠機、去膠機、濕法刻蝕機、單片清洗機等產品,已形成完整的技術體系和豐富的產品系列,可根據用戶的工藝要求量身定制。產品適應不同工藝等級的客戶要求,廣泛應用于半導體生產、高端封裝、MEMS、LED、OLED、3D-IC TSV、PV等領域??蓾M足300mm前道制程及300mm先進封裝厚膠工藝制程。芯源公司連續承擔國家02科技重大專項《極大規模集成電路制造裝備及成套工藝》項目,連續兩年被評為中國半導體行業十強企業。


產品介紹

KS-FT200/300 前道8/12寸涂膠顯影機

KS-FT200/300系列堆疊式高產能前道涂膠顯影機,為我司自主研發的突破晶圓前道28nm工藝節點及以上工藝制程,適用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC,SOC,SOD,SOG等多種材料涂覆顯影工藝的高端機臺。支持與光刻機聯機作業。該系列機臺通過各種行業認證,占地面積小、可靠性高、易于維護,滿足各種功能芯片制程需求。


KS-C300 12寸集束型涂膠顯影機

KS-C300涂膠顯影機可用于高端封裝、 MEMS、OLED等領域的涂覆顯影制程,每小時可加工180片晶片,同時產品可兼容不同材質的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物等。產品可應用于邏輯類、存儲類芯片、攝像頭芯片、功率器件芯片、OLED制造等領域。高端國產化集成電路設備的成功應用為客戶節約了大量成本。產品通過SEMI S2認證。


KS-CF300/200-8SR 全自動SCRUBBER清洗機

清洗機可以用于對晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除,實現高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結合,優化出最佳的清洗工藝參數,確保不損傷晶圓表面的圖形;對于微米級別大顆粒,采用特殊材料的毛刷或高壓噴淋對晶圓進行擦洗去除。配合特有的晶圓翻轉裝置和夾持式承片臺,可在同一臺設備中實現對晶圓的正反兩面進行清洗。


KS-S300-ST 單片濕法去膠機

用于先進封裝工藝過程中的晶圓去膠制程和金屬剝離制程。設備可搭載槽式浸泡單元、高壓噴淋或二流體噴淋去膠單元、清洗及干燥單元等工藝模塊,滿足各種品牌型號、各種厚度的正負性光阻去除及金屬剝離等工藝。具有藥液回收循環過濾再使用、金屬高效率回收等功能。


KS-M300 半自動機臺

KS-M300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產的工藝試驗和生產線。占地面積小,操作時手動上下片,工藝過程可自動完成。

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